第132章 十倍精度光刻(第1/5 页)
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纪弘也很头疼，产能怎么挤？巧妇也难为无米之炊！
最关键的自然不是零部件这种东西，而是光刻机。
不说别的，在限制一次又一次的加码之后，国内现在能够进口的最先进的光刻机是1980di，曝光精度是38nm的那款。
主要用于28nm、14nm制程，多重曝光的情况下，也能制造7nm芯片。
更高级别的已经完全不能出货了。
哪怕是1980di，现在要买也只有理论上的可能。现有的都是存量，都是有数的——华为的先进工艺，就是用这款光刻机采用多重曝光工艺生产的。
等效5nm，算是把这台光刻机压榨到了极限。
而国内生产已经投入商用的光刻机，是分辨率90nm的沪上微电子的SSA600/20。
回到家里，纪弘在书房，也是一样一样的在整理着国内的产业现状，心里也在思索一个可行的方案。
在他心里，王华新院士那边，超爆分辨率光刻机结合类思维AI大概率是可以瞬间解决问题的，目前这个型号的光刻机大约有十六台。
但，不管是否能行，都不能把鸡蛋放在同一个篮子里。
另一个方案……
他明天约了于总，这需要产业整合。
……
“用1980di生产更高工艺级别的芯片？做到台积电N5P的密度？能效比也要追上？”
纪弘一发邀请，于东立即就来了，不为别的，就为手机系统集成大小核与多线程智慧调度模块的开发已经完成。