第132章 十倍精度光刻(第3/5 页)
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俩人换好衣服鞋子手套头套，来到产线。
“杨工，介绍一下现在的情况吧。”纪弘引这于东站在产线正在工作的光刻机屏幕之前，喊来总工程师，如此说道。
“无限套刻测试一直在循环进行，目前，极端线宽已经做到了22nm……”
于东听到22nm的时候，内心还一笑，这也不高嘛。
但是随即反应过来，当即惊呼道：“多少？”
这他么是220nm的光刻机啊，搞我玩儿呢吧，而且这玩意儿用的是i线365nm的光源啊！
华为利用SAQP技术实现4倍精度的光刻，这其中有多困难，只有做过才知道。
而且良率从几乎没法看到现在的渐渐提高，也经历了非常漫长的时间——说白了，这玩意是实在没办法了才去搞的。
如果国内有EUV，何至于费这么大的劲！
“10倍精度！22nm！”杨工程师确认道。
“你们用的什么方法？”于东没有怀疑杨工骗他，这东西就在这儿，骗他没有任何意义，纪弘想跟他谈什么，也不差这一点筹码。
“最简单的方法。”杨工程师也是认真的回复道：“就是把需要光刻的图分到多个掩膜版上，然后一遍一遍的重复光刻-刻蚀-光刻-刻蚀……就这样。”
“这……”这种方法于东当然知道，就是最原始的方法。
但是精度怎么控制啊？这东西在所有的工艺节点上，量产工艺，就没有做过双重以上的，最多就是双重。
理论倒是非常简单，但做起来那是非常的困难。
不仅是工件台的移动精度问题，有非常多的问题需要解决。
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