第325章 威胁系统出奇迹(第5/5 页)
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自获得系统开始，系统一直都很冷淡，主动回应他的这是第三次，而且还是警告。
得咧，你是大爷，惹不起。
陈诺不再搭理系统，而是接收finfet工艺改良技术框架。
十几分钟，他眼中狂喜和震撼。
原本给finfet工艺能将精度从28nm推进到14nm，这段时间他不断的研究，有一种新的想法，或许可以从14nm提升到了7nm。
据他猜测7nm是finfet工艺的极限了，再想提升只能看euv光刻机。
可没想到这个给的finfet工艺改良技术框架最终可以达到5nm，这简直是超乎了他的想象。
若是真达到了5nm工艺，以碳基材料的特性，绝对能吊打2nm的硅基芯片。
从这一点上，国产光刻机已经可以开始崛起了。
但想要完全国产化可能还需要一段路要走，比如高端光源、镜片等。
以国内的自主研发的光刻机使用的光源和镜片，即便加在陈诺的这个finfet工艺，7nm是极限了。
饭要一口口吃，路要一步步走，有了现在这个技术，至少三年内在芯片领域不会被卡脖子了。
三年时间足够发生太多的事情，也许三年后他就于世间无敌了。
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