第123章 科学院光电所光刻机存在的致命问题(第4/5 页)
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孙博点了点头，他明白纪弘的愿景了——这就跟他追求数学的极限是一样的。
此刻，他开始认真考虑从科学院计算所跳槽到卷耳智能科技来了——在那边，他一个副研究员高工，虽然也不错了，但志同才能道合。
他感觉纪弘这里是。
按照卷耳智能科技的思路往下想，光刻机的事儿其实就有答案了，他们肯定没有自己去做的想法。
利用类思维AI这个大杀器，帮助光研所或者沪微去快速的去提高他们光刻机的水平和能力，应该符合卷耳的思路——这样更快。
“所以，现在光电所的光刻机什么情况？”纪弘开口问道。
“单次曝光最高线宽分辨力达到22nm的线宽，双重曝光能够实现10nm级别的芯片制造。”
纪弘看着孙博，那眼神仿佛在说：“你在逗我！”
“这是真的，而且超分辨率光刻技术，是没有技术壁垒的，不涉及其他任何家的专利……”
“好了，你说‘但是’吧！”纪弘说道。
“但是……”孙博自己也笑了：“现在还只应用在科研领域。”
“为什么，不能量产？”
“量产是没有问题的，但是，超分辨率光刻机聚焦面积小，几乎是接触式光刻，而且是直写式的。缺点很致命，这你明白吧？”
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