第123章 科学院光电所光刻机存在的致命问题(第5/5 页)
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纪弘很想说,我明白个嘚儿我明白,我不研究这个:“说清楚一些,具体是哪方面的问题。”
孙博这才想起,纪弘好像是土木专业,自学的编程和AI,光刻机他可能还真不太懂,于是解释道:
“做周期的线、点、光栅部件,举个简单的例子:我们就画两条线,这台光刻机是能实现单次线宽22nm的,如果图形复杂了,那就不行,做不了。”
这么一说,纪弘明白了。
芯片,尤其是现在的芯片,动不动在平方毫米级别的硅片上,刻画几百亿个晶体管场效应管什么的,甚至还是多层光刻。
图案的复杂度完全就不是一个量级的,只能光刻周期性的“点”和“线”,这差距也太大了一点儿。
“所以,王华新院士听了刘向东院士的介绍之后,才那么火急火燎的说要过来,他想看的就是你这边能不能有什么解决方案。”
孙博感叹道:“从简单到复杂,还真是你们类思维AI能干成的,这事儿说不定真能成。
“而且,你知道吗,超分辨率光刻机,光源用的是365nm,这要成了,以后换193nm,直接能抵得上EUV了就!”
纪弘笑了笑,并未绝对应承,思索着确实可行,但是具体情况的话,还需要看训练的成效。
(本章完)
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